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选择ZnO2与Al2O3质量比为97：3的靶材为溅射源，用射频磁控溅射法室温下在玻璃基底上沉积AZO／Ag／AZO薄膜，讨论了氧流量变化对薄膜透光率、方阻及表面形貌的影响并深入分析了机理。研究结果表明，氧流量变化会导致薄膜沉积厚度的变化，氧流量为4时薄膜沉积速率最快。沉积AZO时充入氧气会使整个膜系的透光率不随Ag层增厚明显降低，并且会使膜系的方阻降低。在最优氧流量为4L／min（标准状态下，下同）上下各沉积59nm的AZO与氧流量为0时沉积33nm银层相匹配的复合膜在可见光区（包括基底）的透光率达到90