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目的研究脉冲偏压占空比对TiN／TiAlN多层薄膜微观结构和硬度的影响规律。方法利用脉冲偏压电弧离子镀的方法，改变脉冲偏压占空比，在M2高速铜表面制备5种TiN／TiAlN多层薄膜，对比研究了薄膜的微观结构、元素成分、相结构和硬度的变化规律。结果TiN／TiAlN多层薄膜表面出现了电弧离子镀制备薄膜的典型生长形貌，随着脉冲偏压占空比的增加，薄膜表面的大颗粒数目明显减少。此外，脉冲偏压占空比的增加还引起多层薄膜中AlN／Ti原子比的降低。结论TiN／TiAlN多层薄膜主要以（111）晶面择优取向生长，此外还