【摘 要】
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磁控溅射已经成为沉积薄膜的最重要的方法之一。然而 ,这种镀膜技术亦存在一些缺点 (例如 ,有限的溅射产额和反应溅射过程中等离子体不稳定等问题 ) ,所以它不适宜于在介质膜
【机 构】
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沈阳真空技术研究所 辽宁沈阳110042
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磁控溅射已经成为沉积薄膜的最重要的方法之一。然而 ,这种镀膜技术亦存在一些缺点 (例如 ,有限的溅射产额和反应溅射过程中等离子体不稳定等问题 ) ,所以它不适宜于在介质膜工业生产中应用。本文介绍了一种新的中频 (MF)电源供电的孪生靶磁控溅射。采用这种技术并结合智能化的工艺控制系统 (IPCS)特别对于反应沉积化合物镀层开辟了许多新的机遇 ,它能够在长期内获得高的沉积速率并处于稳定的镀膜状态。因此 ,大面积镀膜在建筑玻璃、汽车玻璃和显示器方面的应用就有了明显的进展并具有广阔的前景。
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