中频溅射相关论文
本文采用中频非平衡磁控溅射技术在奥氏体不锈钢316L基底上沉积TiN薄膜，利用X射线衍射仪、轮廓仪、扫描电子显微镜和分光光度计分别......
在自行研制的离子束辅助孪生磁场中频反应溅射设备中制备光学氧化钛薄膜,利用郎缪尔静电探针研究等离子特性变化,同时测定基片表面......
本文详细介绍了大型金属卷材表面改性连续卷绕镀膜生产线的工作原理、结构组成、技术特点和主要创新设计要点.分析并指出影响大卷......
由于具备较好的稳定性,耐蚀性,较高的硬度和耐磨性以及亮度较低的金黄色彩,近年来氮化锆薄膜引起了国内外装饰等行业极大关注和研......
大面积 Si O2 厚膜沉积可创造很高的附加值 ,但在规模生产中会出现严重的膜层损伤。本文针对这一现象进行机理探讨。
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采用中频磁控反应溅射工艺进行氧化铝薄膜的沉积实验,对该工艺过程中溅射电压和沉积速率与氧流量的“迟滞回线”现象进行了研究。......
利用中频反应磁控溅射技术在1Cr18Ni9Ti不锈钢基底上沉积ZrN薄膜。通过控制N/Ar、溅射功率和基体偏压等参数,得到不同实验条件的Zr......
近日,包头稀土研究院多功能真空镀膜设备通过验收,正式投入使用。该多功能真空镀膜设备是包头稀土研究院功能材料研究所表面工程实......
在硅单晶(100)衬底上用热氧化法氧化一层SiO2做缓冲层,在高纯铝靶上镶嵌金属Yb,Er,然后用中频磁控溅射法制备了镱铒共掺杂氧化铝薄......
采用柱弧离子镀和中频孪生靶非平衡磁控溅射镀膜技术制备了Ti—N—C多层复合黑色硬质膜。采用轮廊仪扫描电子显微镜（SEM）、分光光度......
采用中频非平衡磁控溅射沉积工艺，并施加霍尔离子源辅助沉积，在高速钢W18Cr4V及单晶硅基体上制备了梯度过渡的DLC/TiAlN复合薄膜。利......
<正>(接2017年第5期第80页)(2)中频溅射的沉积速率高。对硅靶,中频反应溅射的沉积速率是直流反应溅射速率的10倍。比射频溅射高五......
采用中频反应磁控溅射技术沉积ZrN薄膜,在真空镀膜机内对称安装了3对矩形孪生靶。利用等离子体发射光谱和质谱仪QMS200分别实时监......
利用中频脉冲磁控溅射工艺制备了低阻高透过率的ZAO薄膜，用湿法腐蚀的方法将制备的平面ZAO薄膜在0．5％的稀盐酸中浸泡一定时间得到绒面......
磁控溅射已经成为沉积薄膜的最重要的方法之一。然而 ,这种镀膜技术亦存在一些缺点 (例如 ,有限的溅射产额和反应溅射过程中等离子......
采用中频非平衡磁控溅射离子镀技术在硬质合金基体YG6上制备TiAlN薄膜。利用XRD、EDS、体式显微镜、显微硬度仪和多功能材料表面性......
反应磁控溅射被广泛应用于制备化合物薄膜。本文分析了反应磁控溅射中迟滞效应、靶中毒与打火现象 ,讨论了提高反应磁控溅射沉积速......
ZL101A铝合金由于具有优良的铸造性能和力学性能,广泛地应用于汽车和摩托车轮毂制造业中。汽车和摩托车轻量化发展对ZL101A铝合金......
用中频孪生靶磁控溅射法沉积制备了掺铒、镱铒共掺Al2O3薄膜，探索了氧气氩气分压、不同衬底、镱铒共掺杂、掺杂浓度、后退火温度、......
