【摘 要】
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日本光学工业为了适应1M 位存储器批量生产的需要,最近开发了一种新型10:1缩小投影曝光设备“NSR-1013i3”。该设备采用超高压水银灯发出的365nm 的 i 线(紫外线)作光源,相
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日本光学工业为了适应1M 位存储器批量生产的需要,最近开发了一种新型10:1缩小投影曝光设备“NSR-1013i3”。该设备采用超高压水银灯发出的365nm 的 i 线(紫外线)作光源,相应地开发了 i 线用的缩小投影镜头,将曝光范围加大到φ14.14mm,而且是10×10～1.25×6mm~2的可变方式,
Japan’s optical industry in order to meet the 1M-bit memory production needs, recently developed a new 10: 1 zoom projection exposure equipment “NSR-1013i3.” The device uses high-pressure mercury lamp 365nm i line (UV) as a light source, the corresponding development of i-line reduction projection lens, the exposure range increased to φ14.14mm, and is 10 × 10 ~ 1.25 × 6mm ~ 2 variable way,
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