【摘 要】
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脉冲激光沉积技术（PLD）易于获得高质量的氧化物薄膜已成为一种重要的制备ZnO薄膜的技术。采用脉冲激光沉积（PLD）（KrF准分子激光器：波长248nm,频率5Hz,脉冲宽度20ns）方法在氧气气氛中
【机 构】
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深圳大学材料学院,深圳市特种功能材料重点实验室
【基金项目】
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国家自然科学基金资助(10674133,10604041);广东省自然科学基金资助;深圳市产学研科技合作资助(Y2005002);深圳市科技计划资助(200604,200706);深圳市南山区科技研发资金资助项目(南科院2008012)
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脉冲激光沉积技术（PLD）易于获得高质量的氧化物薄膜已成为一种重要的制备ZnO薄膜的技术。采用脉冲激光沉积（PLD）（KrF准分子激光器：波长248nm,频率5Hz,脉冲宽度20ns）方法在氧气气氛中以高纯Zn（99.999%）为靶材、在单晶硅和石英衬底表面成功生长了ZnO薄膜。通过X射线衍射仪、表面轮廓仪、荧光光谱仪、紫外可见分光光度计对合成薄膜材料的晶体结构、厚度、光学性质等进行了研究,分析了激光能量变化对其性能的影响。实验结果表明我们使用PLD法可以制备出（002）结晶取向和透过率高于75%的ZnO
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