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光刻技术的原理,就是用光学复制的手段,在半导体中形成图像,进而用来制作电路和为微电子设备服务。近年来,我国的光刻技术发展非常迅速,在集成电路的生产中应用非常广泛,已经具备了较为独立和成熟的光刻能力。在未来,光刻技术在微电子设备上的应用还将会继续发展。本文对光刻技术在微电子设备上的应用和发展进行了一些分析和展望。