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在Ar、N2混合气氛中,通过双靶反应磁控溅射方法制备了一系列不同Si含量的Zr-Si-N复合薄膜,采用EDS、XRD、SEM、AFM和微力学探针表征了复合膜的成分、相组成、微结构和力学性能。结果表明:随着Si的加入,Si3N4界面相形成于ZrN晶粒表面并阻止其长大。低Si含量下,晶粒的细化使Zr-Si-N薄膜得到强化,在Si含量为6.2at%时其硬度和弹性模量分别达到最高值29.8GPa和352GPa。继续增加Si的含量,薄膜逐渐向非晶态转变,同时产生ZrxSiy相,并伴随有明显的力学性能降低。Zr-Si