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电子诱导脱附是近年来在真空科学与表面科学领域内的热门研究课题.电子诱导脱附不仅作为研究和探讨原子激发过程以及电子能量传输机制的有效手段,而且已经逐渐成为获取表面和界面结构、状态等信息的有效方法.本文介绍了利用两种实验装置研究N2在多晶Ni表面的电子诱导脱附实验,测量了(1×10-3 Pa)条件下,N2在多晶Ni表面的脱附产额、电子诱导脱附阈值能量等重要的物理参量.实验研究工作不仅为进一步深入理解和探讨电子诱导脱附内在机制提供了直接的实验依据,而且对表面吸附状态、吸附-脱附过程等理论研究工作以及真