溅射气压对ZrO2薄膜微结构与光学性能的影响

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【摘要】

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利用射频反应磁控溅射在显微玻璃、单晶硅片、NaCl和石英上沉积ZrO2薄膜.膜厚60～80nm.研究发现,溅射气压升高,薄膜结晶程度降低,同时存在单斜相和四方相;晶粒尺寸增大;折射率

【作者】

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刘建华徐可为

【机构】

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西安交通大学

【出处】

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功能材料

【发表日期】

：

2004年z1期

【关键词】

：

ZRO2薄膜磁控溅射溅射气压相结构 O/Zr

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利用射频反应磁控溅射在显微玻璃、单晶硅片、NaCl和石英上沉积ZrO2薄膜.膜厚60～80nm.研究发现,溅射气压升高,薄膜结晶程度降低,同时存在单斜相和四方相;晶粒尺寸增大;折射率上升;透射率在700～1000nm波段上升.这些结果表明溅射气压影响ZrO2薄膜生长机制、微观结构和成份,进而影响其光学性能.

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