【摘 要】
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本文研究了制造高质量闪耀离子蚀刻全息光栅的方法。对于Littrow装置在440nm波段时衍射效率达73％而波阵面质量不降低。闪耀离子蚀刻全息光栅的分辨率和杂散光特性取决于基底材
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本文研究了制造高质量闪耀离子蚀刻全息光栅的方法。对于Littrow装置在440nm波段时衍射效率达73％而波阵面质量不降低。闪耀离子蚀刻全息光栅的分辨率和杂散光特性取决于基底材料的选择和离子蚀刻条件,这些特性与普通机械刻划光栅的特性大致相同。
In this paper, the method of fabricating a high quality sparkle ion etching holographic grating has been studied. The diffraction efficiency is up to 73% for the Littrow unit at 440 nm without degrading the wavefront quality. The resolution and stray light characteristics of a blazed ion-etched holographic grating depend on the choice of substrate material and ion etching conditions, which are about the same as those of a conventional mechanical grated grating.
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