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采用溶胶-凝胶结合旋涂法在单晶si衬底上制备了立方相Y掺杂ZrO2纳米晶薄膜（YSZ），并分析了制备工艺参数对YSZ成膜的影响。采用光学显微镜、扫描电子显微镜、x射线衍射和透射电镜等手段对样品进行了表征和分析。结果表明，加入PVA作为分散剂、采用分级干燥工艺以及提高匀胶转速可大大提高YSZ薄膜的成膜质量，制各的YSZ薄膜表面十分平整，没有出现裂纹。YSZ薄膜为立方相结构，没有出现其它相。薄膜由平均晶粒尺寸为9．4nm的纳米晶组成，薄膜的厚度约为60nm。在室温条件下，低剂量的Xe离子辐照YSZ薄膜后出现微