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a-Si:H薄膜的制备工艺对其光电特性的影响
a-Si:H薄膜的制备工艺对其光电特性的影响
来源 :功能材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户:msbt098
【摘 要】
:
采用MW-ECR CVD方法制备的a-Si:H薄膜在模拟太阳光照射下进行光敏性(σp.σ d)和光致衰退测试.对比了有、无热丝辅助沉积的薄膜的光电特性,得出沉积温度是影响薄膜光敏性的主
【作 者】
:
王青
阴生毅
胡跃辉
朱秀红
荣延栋
周怀恩
陈光华
【机 构】
:
北京工业大学
【出 处】
:
功能材料
【发表日期】
:
2004年z1期
【关键词】
:
氢化非晶硅
氢含量
光敏性
光致衰退
【基金项目】
:
国家重点基础研究发展计划973资助项目(G2000028201-1)
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采用MW-ECR CVD方法制备的a-Si:H薄膜在模拟太阳光照射下进行光敏性(σp.σ d)和光致衰退测试.对比了有、无热丝辅助沉积的薄膜的光电特性,得出沉积温度是影响薄膜光敏性的主要因素,而适当温度的热丝辅助对于薄膜的光致衰退有一定延缓作用.
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