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采用单电流阶跃电化学沉积技术,在商业纯钛(CP-Ti)表面构建硅、银、氟离子共修饰羟基磷灰石(Si-Ag-F-HA)纳米复合薄膜。Ag+的持续释放可以提供有效的抗菌性,Si4+作为生物活性元素可以有效地抵消Ag+的潜在细胞毒性。采用电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)测定涂层中硅和银元素的释放规律。采用傅里叶变换红外光谱(FTIR)、扫描电子显微镜(SEM)、能量弥散X射线谱(EDS)、X-射线衍射(XRD)等技术对得到的材料进行了表征。结果表明:Si,Ag和F三种元素均匀地掺杂到了HA的晶体结构中。S