【摘 要】
：
随着半导体制造业的工艺进步,线宽尺寸的不断减小,对表面覆膜硅片清洗的质量要求也变得越来越严格.当前这类清洗涵盖了从硅片表面有效地去除深亚微米颗粒(
【机 构】
：
Semiconductor Precision Machinery Shanghai
论文部分内容阅读
随着半导体制造业的工艺进步,线宽尺寸的不断减小,对表面覆膜硅片清洗的质量要求也变得越来越严格.当前这类清洗涵盖了从硅片表面有效地去除深亚微米颗粒(<100 nm)和将金属杂质数量控制在1E+10(原子)个/cm2以下这两项要求.传统的洗刷机(Scrubber)清洗方式及兆声波缸槽式湿法清洗工艺正面临这些新的不断深化的工艺技术要求的挑战.rn根据最新对提高硅片表面加工水平和深亚微米颗粒去除能力要求,论证了能同时实现上述目标的清洗方法.这个方法采用以传统缸槽整批处理式湿法清洗机台和单片兆声波清洗机相结合的方案,整批处理式湿法机台的沉浸技术被应用于包括去有机膜、去原生氧化层和去金属杂质的硅片表面处理.与之相比,单片兆声波清洗通过提供一个均衡的兆声波能场,增强了去除深亚微米颗粒的能力,从而更高质量地完成硅片表面清洗.为了验证这种方法的有效性,对φ300 mm再生抛光片进行上述清洗工艺的效果评定.
其他文献
在虚拟仪器的设计中,选择适合的数据采集系统是很重要的。文章在对各种现成数据采集卡,接口总线的理解对比的基础上,以ADS8412为核心设计了集多路选通、模拟信号调理、A/D转
请下载后查看，本文暂不支持在线获取查看简介。
Please download to view, this article does not support online access to view profile.
格赖斯会话含义理论(Gricean Theory of Conversational Implicature)被公认为是语用学上的一个突破性研究成果。自其1967年问世以来,不但受到了哲学界的广泛关注,更是受到语
应用高速度、高点密度,覆盖全晶圆的薄膜检测仪得到的膜厚均匀图像来对CMP工艺进行快速评定.高点密度、全晶圆的膜厚均匀图像能即时显现出CMP工艺中的非对称性膜厚均匀问题并
近些年来,所谓“59现象”引起人们越来越多的关注:一些勤勤恳恳、兢兢业业地为党和人民工作了大半辈子的领导干部,在即将退休安度晚年之时,却因私欲膨胀,走上了违法犯罪的不
对OPC技术在软件与MATLAB动态数据交换中的应用进行了实验研究,设计并实现了基于OPC技术和MATLABde1数据交换系统。用户可以通过该系统将从现场得到的实时数据送入MATLAB服务
《电路分析基础》是一门理工科重要的技术基础课程,学好这门课,对后续专业课程的学习至关重要.文章主要就如何加强理论与实践相结合,创设教学情境,改革教学考核方法三个方面
文章通过把虚拟电子实验室-NI Multisim 10仿真软件引入到电子技术基础实验实践教学中,并通过举例阐述了Multisim 10仿真软件在电路分析基础、模拟电子技术基础、数字电子技
口译过程始终处于动态中，借用认知知识和主题知识对语言进行阐释和理解实际上是在进行逻辑推理和分析，脱离语言外壳并了解语言承载的信息意义。“理解讲话信息的根本任务是找出
黄国存是刚过而立之年的“80后”画家。从非国画专业到获得广西艺术学院国画专业硕士学位,一路走来,得益于两位国画专业教授:钦州学院美术系的闭宗庭和广西艺术学院的阳山。