【摘 要】
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本文作者用RF溅射法获得碳化硅薄膜,利用AES、XPS、TEM和UPS等现代分析仪器研究了碳化硅薄膜的结构.溅射薄膜中Si∶C=1∶1.主要化学键形式为Si-C共价键,原子排布状态为非晶态
【机 构】
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清华大学工程物理系,清华大学工程物理系,清华大学工程物理系,清华大学工程物理系 北京,北京,硕士研究生,北京,北京
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本文作者用RF溅射法获得碳化硅薄膜,利用AES、XPS、TEM和UPS等现代分析仪器研究了碳化硅薄膜的结构.溅射薄膜中Si∶C=1∶1.主要化学键形式为Si-C共价键,原子排布状态为非晶态,并且在短程结构中存在大量畸变与缺陷,薄膜为不理想非晶结构,带尾较长.
Silicon carbide thin films were obtained by RF sputtering, and the structures of silicon carbide films were investigated by using modern analytical instruments such as AES, XPS, TEM and UPS.The Si: C ratio was 1: 1 in sputtered films.The main chemical bond was Si- C covalent bond, the atomic arrangement of the state is amorphous, and in the short-range structure, there are a lot of distortion and defects, the film is not ideal amorphous structure, with long tail.
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