用背散射测定惰性气体在合金和单晶硅中的迁移和释放特性

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不锈钢和铝是重要的核装置中所用的材料,其中的惰性气体在热激活情况下的运动特性与材料在各种辐照和高温条件下的相对稳定性,辐照产生的空洞缺陷以及这些缺陷所造成的膨胀和机械性能的变化有很大关系。因而,研究在金属材料中注入的惰性气体在各种退火温度下的迁移和释放规律,将为核装置所用材料的研究、改进和开发提供必要的实验依据。 单晶硅是重要的半导体材料。在室温下,利用重离子对单晶硅进行离子注入时,当注入剂量大于10~(14)atom/cm~2时,将在与离子射程相应的深度范围内形成非晶层。这个非晶层在其后的热处理过程中可以重新结晶,根据注入离子种类和注入剂量的不同,这个非晶层可以恢复成单晶或形成多晶。研究惰性气体在这种重 Stainless steel and aluminum are important materials used in nuclear installations where the inertial behavior of the inert gas under thermal activation, the relative stability of the material under various exposures to high temperatures, the occurrence of void defects caused by irradiation, and the presence of these defects The resulting expansion and mechanical properties have a great relationship. Therefore, the study of the migration and release of inert gases injected into metallic materials at various annealing temperatures will provide necessary experimental evidences for the research, improvement and development of the materials used in nuclear devices. Monocrystalline silicon is an important semiconductor material. At room temperature, when single crystal silicon is ion implanted by heavy ions, an amorphous layer will be formed in the depth range corresponding to the ion distance when the implantation dose is more than 10 ~ (14) atoms / cm ~ 2. This amorphous layer can be recrystallized during the subsequent heat treatment. Depending on the kind of ion implanted and the dose, the amorphous layer can be recovered as single crystal or polycrystalline. Research inert gas at this weight
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