【摘 要】
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在电弧离子镀弧靶前加挡板以去除大颗粒污染,分别在Si（100）基底上制备非掺杂的纯AlN薄膜,在石英玻璃基底上制备Cu掺杂的AlN薄膜.用X射线衍射（XRD）分析表明,纯AlN膜为弱（100）多晶织
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在电弧离子镀弧靶前加挡板以去除大颗粒污染,分别在Si（100）基底上制备非掺杂的纯AlN薄膜,在石英玻璃基底上制备Cu掺杂的AlN薄膜.用X射线衍射（XRD）分析表明,纯AlN膜为弱（100）多晶织构,而掺Cu的AlN薄膜为非晶结构;X射线光电子能谱（XPS）研究表明,Cu掺杂AlN薄膜中,Cu为＋1价,原子百分含量为11%;光致发光谱显示纯AlN薄膜发紫光（～400nm）,Cu掺杂的AlN薄膜发蓝光（～450nm）.
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