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为了利用电铸层作为微型磨具，开发出两种可制备厚电铸层的电铸工艺。立式低速搅拌法是以低速连续搅拌，在阴极沉降磨粒，以提高阴极附近的镍离子密度。卧式低速旋转法则是试图在被覆圆柱形阴极的丙烯盖上设置3mm见方、长15mm的槽，通过低速旋转阴极让电铸层沿着槽生长。使用立式低速搅拌法时，由于电力线集中在阴极外周，电铸层厚度欠均匀。卧式低速旋转法可在18．3小时内制备出3mm见方、长15mm的电铸层。