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期刊论文
多孔硅表面的Al_2O_3钝化处理
多孔硅表面的Al_2O_3钝化处理
来源 :半导体光电 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lhl1208
【摘 要】
:
用A12O3钝化的方法对多孔硅进行了后处理,获得了光致发光强度强、发光稳定的样品。通过对样品进行傅里叶变换红外吸收谱的测试和分析,指出了A12O3结构的产生是实验中多孔硅发光
【作 者】
:
刘小兵
史向华
【机 构】
:
长沙电力学院物理与信息工程系
【出 处】
:
半导体光电
【发表日期】
:
2001年4期
【关键词】
:
多孔硅
A12O3膜
钝化
porous silicon Al2O3 film passivation
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用A12O3钝化的方法对多孔硅进行了后处理,获得了光致发光强度强、发光稳定的样品。通过对样品进行傅里叶变换红外吸收谱的测试和分析,指出了A12O3结构的产生是实验中多孔硅发光稳定性提高的原因。
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