【摘 要】
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本文报道了用国产DD-P250型等离子增强CVD设备制备的氮化硅膜的组分分析结果。用俄歇电子能谱分析了膜中Si/N组分比以及O、C等杂质的含量,研究了组分比与射频功率、SiH_4/NH_
【机 构】
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杭州大学电子工程系,杭州大学电子工程系,杭州大学电子工程系 杭州 310028,杭州 310028,杭州 310028
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本文报道了用国产DD-P250型等离子增强CVD设备制备的氮化硅膜的组分分析结果。用俄歇电子能谱分析了膜中Si/N组分比以及O、C等杂质的含量,研究了组分比与射频功率、SiH_4/NH_3流量比及衬底温度的关系,用红外吸收法分析了膜中氢的含量及其成键状态,结果表明氮化硅膜中的氢含量是较高的,且氢原子大部分都与氮原子键合,在一定的意义上,可以把此膜看作是硅-氮-氢三元系。
This paper reports the results of the composition analysis of silicon nitride films prepared by the domestic DD-P250 plasma enhanced CVD equipment. The content of Si / N and O, C and other impurities in the film were analyzed by Auger electron spectroscopy. The relationship between the composition ratio and RF power, SiH 4 / NH 3 flow ratio and substrate temperature was studied. The hydrogen content in the film and its bonding state were analyzed. The results show that the hydrogen content in the silicon nitride film is high, and most of the hydrogen atoms are bonded to the nitrogen atoms. In a certain sense, this film As a silicon - nitrogen - hydrogen ternary system.
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