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首先介绍了稳定FEA电子发射均匀性和可靠性的几种结构，然后提出了以离子注入和干法刻蚀技术，在常规电阻率P型衬底上制成具有串联电阻负反馈特性的单片硅FEA。这些设计和工艺可供研究人员在设计具体FEA电子源的不同应用领域，如平片显示器、微波真空器件、微真空传感器时作参考。
提高FEA电子发射可靠性和均匀性的几种结构
【摘 要】
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首先介绍了稳定FEA电子发射均匀性和可靠性的几种结构，然后提出了以离子注入和干法刻蚀技术，在常规电阻率P型衬底上制成具有串联电阻负反馈特性的单片硅FEA。这些设计和工艺可
【机 构】
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华东师范大学电子科学技术系,中科院上海冶金所离子束开放实验室
【出 处】
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微细加工技术
【发表日期】
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2002年1期
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目 (6 96 710 11)
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