人造金刚石薄膜工具

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用化学气相沉积(CVD)法制备的金刚石薄膜工具代替超高压合成的人造金刚石已发展到商品化阶段。三菱材料公司在WC-Co系硬质合金上,用CVD法直接生成4~5μm厚的金刚石薄膜包尖的工具已于1990年秋季批量生产。出光石油化学公司在氮化硅基片上用低压等离子CVD法制备金刚石包尖已于1980年商品化。住友电气工业公司直接在 Diamond thin film tools prepared by chemical vapor deposition (CVD) instead of synthetic high pressure synthetic diamond has been developed to the commercial stage. Mitsubishi Materials Corporation in the WC-Co Department of Cemented Carbide, CVD method directly generated 4 ~ 5μm thick diamond film package tool tip in the fall of 1990 mass production. Idemitsu Petrochemical Company in the silicon nitride substrate by low-pressure plasma CVD diamond tip has been commercialized in 1980. Sumitomo Electric Industries directly at
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