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采用电化学方法，在电场诱导下，对氢化非晶硅（ａ－Ｓｉ：Ｈ）薄膜进行锂离子注入，并用光电化学方法对不同条件下处理的ａ－Ｓｉ：Ｈ薄膜的光伏性质和注入机理进行了研究。结果表明，处理电位小于－０．６０Ｖ时，锂离子注入明显，经过注入的薄膜光伏响应提高６０％左右。
氢化非晶硅薄膜的电场诱导锂离子注入及其光伏特性
【摘 要】
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采用电化学方法，在电场诱导下，对氢化非晶硅（ａ－Ｓｉ：Ｈ）薄膜进行锂离子注入，并用光电化学方法对不同条件下处理的ａ－Ｓｉ：Ｈ薄膜的光伏性质和注入机理进行了研究。结果表明，处理电位小于－０．６０Ｖ时，锂离子注入明
【机 构】
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吉林大学化学系,南开大学光电子研究所
【出 处】
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应用化学
【发表日期】
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1995年1期
【基金项目】
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国家科委“八五”攻关资助课题
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