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期刊论文
非平衡磁控溅射系统的研究
非平衡磁控溅射系统的研究
来源 :新技术新工艺 | 被引量 : 0次 | 上传用户:caojinhe1118
【摘 要】
:
介绍了非平衡磁控溅射系统的原理,试验性能情况,并简要介绍了该系统的一些应用。
【作 者】
:
何万强
徐新乐
等
【机 构】
:
西安工业学院710032,兵器工业新技术推广所100089
【出 处】
:
新技术新工艺
【发表日期】
:
2002年6期
【关键词】
:
非平衡磁控溅射系统
等离子体
磁控溅射镀膜机
unbalanced magnetron
sputtering
application
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介绍了非平衡磁控溅射系统的原理,试验性能情况,并简要介绍了该系统的一些应用。
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