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期刊论文
投影光刻技术的计算机模拟研究
投影光刻技术的计算机模拟研究
来源 :微细加工技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:liongliong440
【摘 要】
:
投影光刻技术的计算机模拟分为三部分,空间像强度分布计算,曝光计算和显影计算,本文分别讨论了各部分数学模型的建立,计算方法及特点,并给出了一些研究结果。
【作 者】
:
范建兴
冯伯儒
等
【机 构】
:
中国科学院光电技术研究所
【出 处】
:
微细加工技术
【发表日期】
:
1996年4期
【关键词】
:
投影光刻
计算机模拟
光刻技术
projection lithograpby
computer simulation
resist exposure
res
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投影光刻技术的计算机模拟分为三部分,空间像强度分布计算,曝光计算和显影计算,本文分别讨论了各部分数学模型的建立,计算方法及特点,并给出了一些研究结果。
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