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在外部电容耦合的辉光放电装置中进行了三乙氧基乙基硅烷、三乙氧基乙烯基硅烷和三甲基乙烯基硅烷的聚合。研究了体系压力、放电功率、等离子气体(N_2、Ar)及基片距离对淀积速率的影响,重点讨论了取代基的影响。并用元素分析、红外光谱和热重分析等方法研究了聚合物的结构与性能。
取代基对有机硅化合物等离子体聚合规律的影响
【摘 要】
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在外部电容耦合的辉光放电装置中进行了三乙氧基乙基硅烷、三乙氧基乙烯基硅烷和三甲基乙烯基硅烷的聚合。研究了体系压力、放电功率、等离子气体(N_2、Ar)及基片距离对淀积
【机 构】
：
中国科学院长春应用化学研究所,中国科学院长春应用化学研究所长春130022,长春130022,长春130022
【出 处】
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高分子材料科学与工程
【发表日期】
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1991年5期
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