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期刊论文
国产电子束正抗蚀剂的实用化研究
国产电子束正抗蚀剂的实用化研究
来源 :半导体情报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:johnnywong
【摘 要】
:
阐述了电子束曝光技术及电子束抗蚀剂在微电子器件制造中的重要性,着重介绍了电子束正性抗蚀剂P(MMA-MAA)的研制过程及为使之达到实用化所进行的各项研究及其结果和应用情况。
【作 者】
:
江泽流
罗四维
等
【机 构】
:
无锡化工研究所,无锡化工研究所
【出 处】
:
半导体情报
【发表日期】
:
1989年4期
【关键词】
:
电子束正抗蚀剂
光刻
微电子
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阐述了电子束曝光技术及电子束抗蚀剂在微电子器件制造中的重要性,着重介绍了电子束正性抗蚀剂P(MMA-MAA)的研制过程及为使之达到实用化所进行的各项研究及其结果和应用情况。
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