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阐述了光刻设备技术的的发展,描述了浸没式光刻技术、纳米压印光刻工艺设备基本原理、技术优势,并展望几种光刻技术的前景。
浅析光刻设备与技术的发展
【摘 要】
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阐述了光刻设备技术的的发展,描述了浸没式光刻技术、纳米压印光刻工艺设备基本原理、技术优势,并展望几种光刻技术的前景。
【机 构】
：
西安卫光科技有限公司
【出 处】
：
知识经济
【发表日期】
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2009年11期
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