【摘 要】
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用磁控溅射法在烧结Nd-Fe-B磁体表面沉积Tb金属薄膜并进行晶界扩散处理,对比经不同热扩散温度及时间处理后的磁体组织和磁性能变化。结果表明,925℃×10 h+500℃×2 h为最佳
【机 构】
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山东大学大学材料科学与工程学院; 包头稀土研究院;
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用磁控溅射法在烧结Nd-Fe-B磁体表面沉积Tb金属薄膜并进行晶界扩散处理,对比经不同热扩散温度及时间处理后的磁体组织和磁性能变化。结果表明,925℃×10 h+500℃×2 h为最佳晶界扩散工艺,可将磁体矫顽力提高到1630.9 kA/m,较原始磁体提升50%,同时剩磁和磁能积无明显下降,磁体仍具有较高的退磁曲线方形度。晶界扩散处理后磁体取向度有所提高,主相晶粒表面形成了明显的富Tb壳层结构,其厚度随离开磁体表面距离的增加逐渐变薄,随热扩散温度升高和时间延长逐渐增厚。长时间热扩散处理使磁体内形成沿晶界分布的连续薄层富Nd相,将主相晶粒彼此分隔,有效降低磁性相颗粒间交换耦合作用。EDS分析表明,适当的热扩散工艺可使Tb元素扩散至磁体芯部,渗透厚度4 mm的磁体。
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