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40hm栅刻蚀工艺面临很多的挑战，其中线宽粗糙度（Line width roughnesS，LWR）、关键尺寸负载效应、均匀性和物理形貌（Profile）尤为困难。本文着眼于LWR和物理形貌的优化和研究。实验结果显示BARC（Bottom Anti-Reflective Coating）刻蚀气体、等离子体处理步骤的位置和工艺时间均对LWR造成影响；氧气和偏压功率实验的形貌结果说明不同栅刻蚀步骤中，即使同一个参数，对形貌的影响也并不一样，其作用原理在文中也作了详细分析。