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本文研究了用电子束蒸镀工艺制备用于光波导器件的 Si O2 膜。采用高温退火处理工艺使 Si O2 膜的光学和物理特性稳定。在蒸镀过程中 ,输入不同压力的 O2 ,可以改变和控制 Si O2 膜的组分 ,达到控制膜折射率的目的。通过逐次蒸镀、退火的工艺 ,实现 1μm以上厚 Si O2 膜的制备。