【摘 要】
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通过有机镀膜的方法，利用一种自设计合成的三嗪硫醇化合物（TTN）在铜表面制备有机薄膜。通过循环伏安法解释了TTN在纯铜表面的反应及有机薄膜（PTT）的生长过程，并在0．05mA／cm^2的电流密
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通过有机镀膜的方法，利用一种自设计合成的三嗪硫醇化合物（TTN）在铜表面制备有机薄膜。通过循环伏安法解释了TTN在纯铜表面的反应及有机薄膜（PTT）的生长过程，并在0．05mA／cm^2的电流密度下进行恒电流有机镀膜。通过电化学方法对薄膜的性能进行了评价，测试结果显示有机镀膜方法能在铜表面获得均匀致密的有机膜，为有机介电薄膜的制备提供研究基础。
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