【摘 要】
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等离子体深刻蚀技术是MEMS制备的关键,利用该技术进行刻蚀时,会出现lag效应和反常lag效应,严重影响器件的性能.为了消除lag效应,建立刻蚀和钝化模型分析lag的产生,并利用ARDE
【机 构】
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西安飞行自动控制研究所,西安,710065
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等离子体深刻蚀技术是MEMS制备的关键,利用该技术进行刻蚀时,会出现lag效应和反常lag效应,严重影响器件的性能.为了消除lag效应,建立刻蚀和钝化模型分析lag的产生,并利用ARDE表征lag.采用“四因子-三水平”的正交实验研究不同工艺参数对lag的影响,得到工艺参数影响lag的优先级:线圈功率和极板功率对lag产生影响最大,与此同时得到一组最优的实验参数.在低线圈功率和低极板功率条件下,研究了改变压强和气体流量对lag的影响,增加压强和气体流量都会减小lag.最终通过优化工艺参数得到了反常lag结构和lag消除的刻蚀结构.
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