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11月16日，英特尔公司全球同步发布创新的45纳米High-K制程技术及处理器新产品。戈登·摩尔先生给予了这项技术极高的评价：“采用High-K栅介质和金属栅极材料，是自上世纪60年代晚期推出多晶硅栅极金属氧化物半导体（MOS）晶体管以来，晶体管技术领域里最重大的突破!”
迎接45纳米
【摘 要】
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11月16日，英特尔公司全球同步发布创新的45纳米High-K制程技术及处理器新产品。戈登·摩尔先生给予了这项技术极高的评价：“采用High-K栅介质和金属栅极材料，是自上世纪60年
【出 处】
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信息系统工程
【发表日期】
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2007年12期
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