【摘 要】
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以不同功率溅射制备了CoFeB合金薄膜样品并在高真空下退火处理。发现低功率生长的薄膜始终具有磁各向同性，而高功率生长的薄膜随着退火温度的升高，由起始的单轴磁各向异性逐渐
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以不同功率溅射制备了CoFeB合金薄膜样品并在高真空下退火处理。发现低功率生长的薄膜始终具有磁各向同性，而高功率生长的薄膜随着退火温度的升高，由起始的单轴磁各向异性逐渐向磁各向同性转变。X射线衍射分析也印证了CoFeB薄膜随退火温度的升高，薄膜由非晶态逐渐向结晶态转变。当退火温度高于400℃时，低功率生长的CoFeB样品的矫顽力大于高功率生长薄膜的矫顽力。同时发现低功率生长的CoFeB的(110)峰值高于高功率生长的样品峰值，表明低功率生长的薄膜晶粒尺寸更大。
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