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在同步辐射光刻光束线和实验站上进行大规模集成电路光刻， 其均匀性问题直接影响暴光样品的成品率。利用计算机对暴光均匀性信号进行快速精细在线测量。讨论了光刻光束线在线实时控制系统和它的基本特征。
同步辐射光刻均匀性最优控制
【摘 要】
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在同步辐射光刻光束线和实验站上进行大规模集成电路光刻， 其均匀性问题直接影响暴光样品的成品率。利用计算机对暴光均匀性信号进行快速精细在线测量。讨论了光刻光束线在线实时控制系统和它的基本特征。
【机 构】
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中国科学技术大学电子科学与技术系!安徽合肥230026,中国科学技术大学电子科学与技术系!安徽合肥230026,中国科学技术大学电子科学与技术系!安徽合肥230026
【出 处】
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核电子学与探测技术
【发表日期】
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2000年01期
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