薄层色谱硅胶粉中有机杂质的去除方法

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目的 本文介绍了灼烧去除薄层色谱硅胶粉中有机杂质的方法 。结果 将薄层色谱硅胶粉置瓷蒸发皿中,在马福炉中600℃灼烧4~6小时。结论 硅胶粉经高温灼烧处理后,可以完全去除硅胶粉中的有机杂质;硅胶分子内的结构水的得失是可逆的;硅胶结构没有受到破坏而失去吸附活性。
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