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本文在成熟使用电子束曝光机制作各种掩模版的基础上,针对评价掩模版质量的三大因素:图形尺寸精度、图形套准精度、芯片合格率逐一详细分析,以研究探讨如何应用电子束曝光机制作高质量的掩模版。
对一台光棚扫描电子束曝光机制作掩模版质量的分析
【摘 要】
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本文在成熟使用电子束曝光机制作各种掩模版的基础上,针对评价掩模版质量的三大因素:图形尺寸精度、图形套准精度、芯片合格率逐一详细分析,以研究探讨如何应用电子束曝光机
【机 构】
：
中国科学院上海冶金研究所,中国科学院上海冶金研究所上海200050,上海200050,上海200050
【出 处】
：
微细加工技术
【发表日期】
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1993年2期
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