【摘 要】
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采用磁控溅射技术制备不同原子比的ZrAlCuN薄膜。采用场发射扫描电镜（FESEM）观察截面形貌,高分辨透射电镜分析微观组织结构,纳米压入法测定薄膜的硬度,压入法（维氏压头）测定薄膜
【机 构】
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装甲兵工程学院再制造技术国家重点实验室,装甲兵工程学院机械工程系
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采用磁控溅射技术制备不同原子比的ZrAlCuN薄膜。采用场发射扫描电镜（FESEM）观察截面形貌,高分辨透射电镜分析微观组织结构,纳米压入法测定薄膜的硬度,压入法（维氏压头）测定薄膜的韧性。结果表明：Zr0.36Al0.15Cu0.01N0.48薄膜截面呈纳米尺度柱状晶,沿沉积方向生长,仅存在[111]、[200]、[220]、[311]取向的5-10nm ZrN晶粒,未发现AlN及Cu独立相,硬度约41.7GPa（载荷10mN）,弹性模量约257.8GPa。Zr0.29Al0.24Cu0.08N0.39
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