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采用离子束辅助沉积法（Ion beam assisted deposition，IBAD）在单晶硅片上进行沉积制备了TiN／Si3N4纳米复合超硬薄膜；研究了辅助束流、轰击能量和Ti：Si靶面积比等工艺参数对TiN／Si3N4超硬纳米复合薄膜性能的影响。此外采用纳米硬度计、光电子能谱（X-ray photoelectron spectrum，XPS）和X射线衍射分析（X-ray diffraction，XRD）方法研究了纳米复合薄膜的性能、成分与组织结构；采用原子力显微镜（Atomic force mic