超临界二氧化碳清洗实现无损伤

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日前,中科院微电子所自主研发出超临界二氧化碳无损伤清洗设备。应用此设备对硅片进行清洗,清洗后颗粒明显减少,且平均粒径小于传统清洗的粒径。相对用等离子法清洗,该方法不会对硅片造成损伤,同时可减少工艺步骤,节省时间,提高工作效率。
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