鋁膜的等离子各向異性刻蝕

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本文根据等离子各向异性刻蚀的基本原理,综述了铝薄膜在反应性等离子体中实现各向异性刻蚀需要注意的一些主要问题,从而有助于了解其刻蚀过程以获得良好的各向异性刻蚀特性。 In this paper, based on the basic principle of plasma anisotropic etching, the main problems that should be noticed in the anisotropic etching of reactive thin films of aluminum are reviewed, which helps to understand the etching process to obtain good anisotropy Heterogeneous etching characteristics.
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