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KLA-Tencor公司日前推出最新型叠对测量系统Archer200，它包含一个能够显著改善性能的增强型光学系统，这对于帮助客户在32nm设计规格节点达到双次成像光刻更严格的叠对要求至关重要。客户还可以选择在Archer 200上增加KLA-Tencor先进的散射测量技术，以在达到其特定的32nm及更小线距测量要求中提供更大的灵活性。