【摘 要】
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本文采用新型的自行研制的化学机械抛光液，对碲锌镉晶体进行了化学机械抛光方法的尝试性试验，并分析了在化学机械抛光（CMP）过程中抛光垫的硬度、磨料的种类、氧化剂、抛光液的pH
【机 构】
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大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室
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本文采用新型的自行研制的化学机械抛光液，对碲锌镉晶体进行了化学机械抛光方法的尝试性试验，并分析了在化学机械抛光（CMP）过程中抛光垫的硬度、磨料的种类、氧化剂、抛光液的pH值对表面质量和材料去除率的影响，提出适合软脆功能晶体碲锌镉的高效低损伤抛光工艺。结果表明，采用自行研制的带有硝酸的化学机械抛光液，在pH优化值为2.5时，15min即可获得Ra为0.67nm的超光滑无损伤表面，大大提高了加工效率和精度。
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