【摘 要】
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LDMOS（横向扩散金属氧化物半导体）由于可以承受一定的高电压、同常规CMOS平台容易兼容等特点,集成生产出的芯片兼备了耐压、低能耗、低成本等特性,在电源管理等领域得到了广泛
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LDMOS（横向扩散金属氧化物半导体）由于可以承受一定的高电压、同常规CMOS平台容易兼容等特点,集成生产出的芯片兼备了耐压、低能耗、低成本等特性,在电源管理等领域得到了广泛的推广和应用。击穿电压和导通状态下单位面积的阻值是衡量LDMOS优良与否的关键参数,而在生产过程中,由于工艺步骤的波动,将会导致击穿电压等电性参数的波动。这是以40V N型LDMOS为例,研究了在实际生产中击穿电压的不稳定性,通过分析和实验,调整了生产工艺的顺序、具体工艺的条件,改善了击穿电压的不稳定性,使得击穿电压的标准差从工艺改进
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