薄膜涂层的研制

来源 :激光与光电子学进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xt100q
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在Battelle的能源部西北实验室工作的研究人员,近来正用一种叫做反应溅射的方法研制新的光学涂层材料。最近,能源部基础能源科学局在研究中发现了一种硅合金。通常人们所知道的无定形硅引人注目的物理性质在薄膜涂层中仍然保留,而在氟化氢化学激光器工作波长2.7微米处其吸收减小了一个数量级,在碘激光器工作波长1.3微米处减小 Researchers working at the Northwest Laboratory of Battelle's Department of Energy have recently been developing new optical coatings using a method called reactive sputtering. Recently, the Department of Basic Energy Energy of the Department of Energy found in the study of a silicon alloy. It is generally known that the attractive physical properties of amorphous silicon remain in the thin film coating with an absorption decrease of one order of magnitude at a working wavelength of 1.7 μm for a hydrogen fluoride chemical laser and a decrease of 1.3 μm at an operating wavelength of an iodine laser
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