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用正交设计实验研究了电弧离子镀技术中采用脉冲偏压以后各种参数对沉积TiN薄膜性能的影响．研究表明，与直流偏压相比，直流叠加脉冲偏压能更好地细化颗粒，降低薄膜的表面粗糙度，提高沉积速率．对实验结果的方差分析显示：气氛和频率是降低表面粗糙度、提高沉积速率的主要因素．
电弧离子镀技术中脉冲偏压对TiN薄膜的影响
【摘 要】
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用正交设计实验研究了电弧离子镀技术中采用脉冲偏压以后各种参数对沉积TiN薄膜性能的影响．研究表明，与直流偏压相比，直流叠加脉冲偏压能更好地细化颗粒，降低薄膜的表面粗糙度，提
【机 构】
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邢台学院物理系,河北省教育考试院信息办公室
【出 处】
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河北师范大学学报
【发表日期】
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2006年5期
【基金项目】
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河北省教育厅自然科学基金资助项目（Z2005319）
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