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用射频磁控溅射方法在Si[100]衬底上沉积了La0．8Bi0．2MnO3多晶薄膜，再在不同温度下进行退火热处理．使用XRD衍射仪、原子力显微镜（AFM）分别对薄膜微结构进行了表征，结果显示薄膜随着退火温度的升高逐渐晶化，晶体结构属于钙钛矿菱形结构；薄膜的表面致密、晶粒大小均匀，850℃退火的薄膜晶粒尺寸约40nm左右．薄膜的X射线光电子能谱（XPS）测量表明薄膜中Bi的价态为Bi抖和既”．经过退火的薄膜在室温300K、液氮77K下都存在巨磁电阻效应．850℃退火的薄膜，温度为300K和77K、磁场为1．