【摘 要】
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退火处理对复合薄膜的形貌和结构都将产生较大的影响,对由水热腐蚀技术制得的铁钝化多孔硅进行高纯氮气(99.999 9%)下900℃退火3 h,利用扫描电镜(SEM)、XRD等分析手段对比研
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退火处理对复合薄膜的形貌和结构都将产生较大的影响,对由水热腐蚀技术制得的铁钝化多孔硅进行高纯氮气(99.999 9%)下900℃退火3 h,利用扫描电镜(SEM)、XRD等分析手段对比研究了铁钝化多孔硅在退火前与退火后的结构变化特点.发现在微米层次上,退火后的多孔硅样品基本保持了退火前样品表面的规则阵列排布形式;在纳米层次上,退火后样品表面的硅柱仍呈多孔状,但孔壁的硅晶粒长大,平均晶粒尺寸由退火前的5 nm长大为退火后的17.2 nm.
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